レーザーテック、EUVマスク裏面検査/クリーニング装置を発表

　

　レーザーテックは2月22日、EUVマスク裏面検査/クリーニング装置「BASIC」シリーズを発表した。

　半導体分野では、さらなる微細化に向けた次世代技術として、EUVリソグラフィの研究・開発が加速している。EUVスキャナーによるパターン露光は従来と異なり、マスクの保持に静電チャックを必要とする。その際、EUVマスク裏面に異物が付着した状態でスキャナーの静電チャックに吸着すると、マスク基板が歪んで露光パターン位置にずれが生じてしまう。このため、マスク裏面のクリーン化や静電チャックの異物管理などが求められている。

　そこで、同シリーズでは、EUVマスク裏面異物検出に最適化された光学系による異物検査機能、EUV露光に影響を及ぼす異物を特定するためのコンフォーカル光学系による異物高さ測定機能、異物をクリーニング(除去)する異物除去機能を搭載した。

　また、マスクの搬送システムでは、発塵リスクが無くパターンにダメージを与えないデュアルポッドハンドリング方式を採用した。同装置をEUVマスクハンドリング技術開発からEUVマスク裏面の定期的な管理に利用することによって、EUVマスク裏面の安定的なクリーン度の確保が可能となるとしている。

　なお同社では、ウェハファブ、マスクショップ、ブランクスメーカーでのEUVマスク裏面の品質管理向けでの採用を目指している。

　EUVマスク裏面検査/クリーニング装置「BASIC」シリーズ