Novellus、IBMおよびCNSEとAlbany NanoTechにおける戦略的提携に合意

　

　半導体製造装置大手のNovellus Systemsは、IBMおよびニューヨーク州立大学アルバニー校のナノスケール科学工学カレッジ(CNSE:College of Nanoscale Science and Engineering)と、CNSEの研究施設であるAlbany NanoTech Complexにおいて、22nmプロセスおよびそれ以降の微細プロセス技術の開発を目的とした戦略的提携に合意したことを明らかにした。

　同合意における最初の研究は、28nmや22nmの先端プロセスに向けた、先進的な、残渣のないフォトレジスト除去技術の開発となる予定。フォトレジスト除去技術は、半導体チップの配線形成に用いられる技術の1つだが、共同研究により、High-K/メタルゲート技術と併用できるHigh-Dose Implant Strip(HDIS)プロセスやUltra-low-k絶縁膜に使われるダメージフリー除去プロセスを含んだ、広範囲のフォトレジスト除去技術の開発を目指すとしている。

　なお同研究に向け、Novellusの先端フォトレジスト除去装置「GxT」が、IBMのイーストフィッシュキルの工場およびCNSEのAlbany NanoTech Complexに導入され、先端プロセスのレジスト除去技術の開発に活用されることとなる。

　フォトレジスト除去装置「GxT」が搭載されるNovellusの表面処理プラットフォーム「GAMMA」(写真はGxT同様のフォトレジスト除去装置「G400」搭載版)