ASML、半導体向けEUVリソグラフィの開発を促進に向けCymerを買収

　

　ASMLは、半導体露光装置の光源の開発・製造などを手掛ける米Cymerの発行済み株式のすべてを購入することで、両社が最終的な合意に達したと発表した。

　Cymerの発行済み株式の時価総額は19億5000万ユーロ。ASMLでは、買収の目的を半導体向けEUVリソグラフィ技術の開発促進のため、と説明しており、露光装置と光源それぞれの技術を組み合わせることで、リスクの低減を図りつつ、量産対応のEUV露光装置の早期実現を図りたいとしている。

　買収は米国ならびに各国の規制当局による調査、Cymerの株主による承認など通例の手続きを経た上で、2013年上期に完了することを予定されているが、ASMLでは今後の計画として、2013年にEUV露光装置の量産機「TWINSCAN NXE:3300B」の最初の11台を半導体ベンダの研究開発用として出荷するほか、同装置の追加注文分は2014年に量産ラインを導入して対応する予定としており、すでに4台の確約注文を受けたほか、今後6カ月の間にさらに4～8台の受注を獲得できるものとの見方を示している。

　なお、両社はNXE:3300Bにおいて30W光源にて18枚/時のスループットを実現しているが、2014年には105W光源を用いて69枚/時のスループットの実現を目指すとしている。