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Veeco、パワーデバイス向けGaN系MOCVD装置「Propel」を発表
Veeco Instrumentsは、パワーデバイス向けGaN系MOCVD装置「Propel」を発表した。
同装置は、6インチおよび8インチウェハを処理できる200mmリアクタープラットフォームを採用し、パワーエレクトロニクスデバイスを製造するための高品質なGaN系膜を形成できる。また、シングルウェハリアクターは、ウェハ全体で均質な層流と均一な温度特性を実現するIsoFlange技術およびSymmHeat技術などを備えた独自のTurboDisc技術に基づいて設計されている。
なお、同社の「K465i」や「MaxBright」システムを使用しているユーザーは「Propel」に簡単に移行することができる。
パワーデバイス向けGaN系MOCVD装置「Propel」
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